数码科技

EUV微影将在7nm投入生产

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荷兰微影业者ASML NV的高层主管在日前表示,随着业界持续朝着量产部署经常被延迟的下一代微影技术目标迈进,该公司预计明年将出货20至24套极紫外光(EUV )微影工具。
ASML总裁兼执行长Peter Wennink在发布该公司第一季财报后告诉分析师,该公司持续朝向其每小时生产125片晶圆、90%光源可用性的EUV目标进展。Wennink提到英特尔(Intel)、三星(Samsung)和台积电(TSMC)在近期举行的SPIE先进微影会议(SPIE Advanced Lithography Conference)上所进行的简报,展示其使用EUV系统的最新成果以及EUV基础设施现况。
Wennink说:「虽然目前仍在诸如光罩护膜(pellicle)等方面仍待完善,但依客户所指出的时间表来看,导入EUV似乎没有太大的障碍。」
经过多年来经常令人沮丧和痛苦的缓慢进展后,EUV如今已准备好在未来几年内投入生产了,预计将从7nm节点开始,由英特尔、台积电和三星等公司部署于其生产中;这三家公司都在ASML进行投资,作为客户投资计画的一部份,协助该公司开发相关技术。
ASML在日前表示,该公司目前未交货的订单有21台??其最先进的EUV工具NXE:3400B EUV系统,预计将在今年开始交货,总价值达23亿欧元(约24.6亿美元) 。ASML还有14套较旧型的3300和3350系统仍在使用中,其中大部分预计将会进行升级。
半导体产业市场观察机构VLSI Research执行长G. Dan Hutecheson指出,ASML的报告并未提供有关EUV微影技术的新消息。「基本上一切依照计划进行,」Hutecheson说,「当然,现在的大问题是是否能真的把它放到系统可靠的地方,并使其完全融入生产?这正是现在大家都在做的。 」
Wennink表示,尚未出货的21套系统来自五家独立客户的订单,估计大概就是英特尔、三星、台积电和Globalfoundries。Wennink表示,ASML目前还有两家EUV客户即将接单,显示示其他顶级晶片制造商正紧随英特尔、台积电和三星之后部署EUV。
「当然,很明显地,以导入EUV方面来看,英特尔、台积电和三星是『前三大』,而其他公司则明显紧随其后,」Wennink说。
ASML在EUV方面的进展是其整体看来强劲成长的季报重点,在销售和利润上都超过了分析师的预期。
Wennink在电话会议上说:「今年一开始就是强劲成长的一季,我们预计这一动能将持续全年。」
ASML第一季的销售净额为19.4亿欧元(约20.8亿美元),较上一季成长2%,并较去年同期成长46%。ASML报告其第一季净利为4.52亿欧元(约4.84亿美元),较上一季下滑14%,但较去年同期增加了128%。

ASML预计第二季的销售额可望达到19亿欧元到20亿欧元之间,略低于分析师预期。

via:https://www.eettaiwan.com/news/article/20170525NT02-EUV-Litho-Coming-Into-Commercial-Focus

剧毒术士马文

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